本頁為嘉晶電子(Episil-Precision Inc.,代號 3016)11 場法說會簡報(中文+英文共 22 份)的結構化重點整理,涵蓋 2017-04-13 ~ 2026-04-29,係公開資訊觀測站實證之完整場次。

⚠️ 三項引用紀律(務必先讀) 1. 僅 2 場有逐字稿(2025-09-17、2026-04-29),且兩份逐字稿皆有 AI 轉錄誤植(詳第五節)。所有財務數字一律以法說會簡報 PDF 與季報為準,逐字稿僅取質化敘述。 2. 圖表對位風險:多場簡報的圓餅圖/長條圖為圖片,文字層抽出的數列順序常與圖例順序相反。本整理所有標記 (圖) 之數字係經 300dpi 轉圖目視判讀,並以中英兩版交叉驗證。 3. 頁次一律以中文版為準;英文版頁數常多 1 頁(多一張 Contents 或 Q&A),2017/2018 場另有中英內容不一致之處,已逐項註明。


一、11 場清單與揭露顆粒度變化(★本頁最重要的一張表)

# 日期 名稱 涵蓋期別 中文版頁數 財報頁 具數字標籤之產品/尺寸/產能揭露 明確財測
1 2017-04-13 年度法說會 FY2012–2016+17Q1/Q2 18 p.14–15 市佔率、Epi Mill 產能、產品別占比、區域別占比 ✅ Q1 營收約 8 億、YoY +20%
2 2018-03-21 107 年法說會 FY2015–2017+18Q1 11 p.4 2017 月產能(Si 330K/SiC 1,500/GaN 2,000 片)、四產品線占比 ✅✅ 營收 +15~18%/毛利率 14~16%/營益率 7.5~9.5%
3 2018-08-22 法說會 FY2016–2017+18H1 9 p.4 2018Q2 月產能(Si 360K/SiC 1,500/GaN 2,000 片)、四產品線占比 ✗(唯一無前瞻頁的一場)
4 2019-10-29 108 年法說會 FY2016–2018+19H1 10 p.4 五產品線占比、SJ 產能 6,000 片/月、客戶「增加 3 家以上」 △ 質化(明年 Q1 逐漸回溫)
5 2020-08-19 109 年法說會 FY2017–2019+20H1 9 p.4–5 五產品線占比(Y2019 實績 vs 預估可對照) ✅ Q3 QoQ (9~13%)、全年微幅成長
6 2021-11-15 110 年法說會 FY2019–2020+21Q1–Q3 14 p.4–5 應用別、晶圓尺寸別、區域別三張帶標籤圓餅 ✅ 2022 雙位數成長+資本支出 USD$12~16M/未來 2–3 年 USD$40~50M
7 2022-09-22 111 年法說會 FY2020–2021+22H1 9 p.3 季營收絕對金額($M)標籤 ✅ 22Q3(F) $1,535~1,545M
8 2023-09-21 112 年法說會 FY2021–2022+23H1 14 p.4 堆疊圖無標籤 △ 下半年較上半年個位數下降
9 2024-09-11 113 年法說會 FY2022–2023+24H1 14 p.4 僅 YoY 百分比
10 2025-09-17 114 年法說會(嘉晶+漢磊聯合 FY2023–2024+25H1 13 p.4–5 僅 YoY 百分比
11 2026-04-29 2026 Q1 法說會(首次改一年兩次) 2026Q1 16 p.4–5 ★晶圓尺寸別占比(p.9,帶標籤) ✅ 26Q2 整體 QoQ >+20%(p.15)/矽磊晶 >+20%、化合物 +19%(p.7)

★★ 揭露顆粒度的系統性降級:2017–2022 六場曾逐項揭露產能絕對數、產品別占比、季營收絕對金額、含毛利率與營益率的區間財測2023 年起全數消失,僅剩 YoY/QoQ 百分比與堆疊圖。2026-04-29 場恢復揭露晶圓尺寸別占比(法說會簡報 p.9)並改為一年兩次(董事長 2026-04-29 法說會 [00:00:55]),是揭露密度回升的第一個訊號。 這比「公司不揭露」更貼近事實:公司過去揭露得多,近三年才收斂。


二、★晶圓尺寸別占比(8 吋轉型的完整一手證據)

(來源:2021-11-15 法說會簡報 p.10(圖)、2026-04-29 法說會簡報 p.9(圖);皆為 300dpi 轉圖判讀之資料標籤)

期別 4 吋 5 吋 6 吋 8 吋 出處
21Q1~Q3 10% 20% 32% 38% 2021-11-15 法說會簡報 p.10(圖)
25Q1 10% 15% 20% 55% 2026-04-29 法說會簡報 p.9(圖)
26Q1 2% 10% 18% 70% 2026-04-29 法說會簡報 p.9(圖)

三、產品線營收時序(★早年有金額與占比、近年只剩百分比)

產品別占比(帶資料標籤,皆為轉圖判讀)

年度 Power Discrete Power IC/PMIC/代工(埋藏層) Compound(化合物) Super Junction(超結) 8" IGBT/HV 出處
FY2016 76.40% 21.30% 2.30% 2017-04-13 法說會簡報 p.9(圖)
FY2016 77.3% 20.6% 2.1% 0.0% 2018-03-21 法說會簡報 p.8(圖)
FY2017 76.1% 20.9% 2.5% 0.4% 0.00% 2018-03-21/2019-10-29 法說會簡報(圖)
FY2018 74.00% 16.30% 2.80% 3.50% 3.40% 2019-10-29 法說會簡報 p.6(圖)
FY2019(實績) 67.2% 18.9% 3.9% 5.8% 4.3% 2020-08-19 法說會簡報 p.7(圖)
FY2020(預估) 68.9% 17.8% 3.8% 2.9% 6.6% 2020-08-19 法說會簡報 p.7(圖)

⚠️ 同一數列在不同場次的標籤不一致:約 20.9%@FY2017 的那一列,2017 場稱 PMIC、2018 兩場稱 代工(埋藏層磊晶)、2019/2020 場稱 Power IC。引用時務必註明場次與當場標籤,不可跨場合併。 ⚠️ 報告易漏的第三條產品線 MLBL:2021-11-15 法說會簡報 p.7/p.8、2022-09-22 簡報 p.5、2023-09-21 簡報 p.7 的營收圖均有 MLBL(8" Multi-Layer BL,8 吋多層埋藏層磊晶)獨立系列,23Q2 曾達約 $140M(軸讀);2024 年起此系列自簡報消失

季營收絕對金額(唯一一場帶金額標籤)(2022-09-22 法說會簡報 p.5)

21Q1 21Q2 21Q3 21Q4 22Q1 22Q2 22Q3(F)
$1,115M $1,235M $1,348M $1,346M $1,473M $1,534M $1,535~$1,545M

(GM% 右軸自約 10.5% 升至約 20.3%,2022-09-22 法說會簡報 p.5)

近年產品線 YoY/QoQ(僅百分比、無金額)

期別 整體 矽磊晶 化合物磊晶 GaN SiC 出處
24H1(YoY) (4%) (12%) +51% +38% +59% 2024-09-11 法說會簡報 p.7、p.8
25H1(YoY) (11%) (2%) (49%) (21%) (64%) 2025-09-17 法說會簡報 p.7、p.8
26Q1(QoQ) (1%)/YoY +18% (1%) +8% +73% (27%) 2026-04-29 法說會簡報 p.7、p.12
26Q2(財測) QoQ >+20% >+20% +19% 2026-04-29 法說會簡報 p.15(整體)/p.7(分項)

SiC 季營收軌跡(軸讀近似值,2024-09-11 法說會簡報 p.8、2025-09-17 法說會簡報 p.8、2026-04-29 法說會簡報 p.12) 23Q1 $85M → 23Q4 $137M → 24Q1 $187M(峰值) → 24Q2 $74M → 24Q3 $48M → 24Q4 $21M(谷底、自峰值 (89%)) → 25Q1 $45M → 25Q2 $50M → 26Q1 約 $47M GaN:23Q1 $49M → 24Q3 $77M → 25Q2 $41M → 26Q1 約 $62M


四、★產能絕對數字與資本支出承諾(2017–2021 有、2022 後消失)

場次 揭露內容 頁次
2017-04-13 Epi Mill 1(Si 4~8"+SiC 4"/6",1.5–2 Kpcs/m)/Epi Mill 2(Si+6" GaN,1.5–2.5 Kpcs/m)/Epi Mill 3(Si,總產能 350–400 Kpcs/m);另揭露日本子公司 PSJ。★前兩行僅英文版有、中文版被刪 法說會簡報 p.8
2018-03-21 2017 月產能:Silicon EPI ~330K 片/SiC EPI ~1,500 片/GaN EPI ~2,000 片;廠區=篤行/創新/磊新/BL 廠 法說會簡報 p.5
2018-08-22 2018Q2 月產能:Silicon EPI ~360K 片/SiC EPI ~1,500 片/GaN EPI ~2,000 片(矽磊晶月產能一年 +9%,自算) 法說會簡報 p.5
2019-10-29 超級接面(SJ)產能擴充到每月約 6,000 片;SJ 營收成長率較前一年增加約一倍增加 3 家以上的客戶合作 法說會簡報 p.7
2021-11-15 「2022 年預估有雙位數營業額的成長」「明年 2022 年預估會有 USD$12M~$16M 的投資」「未來二~三年投入 USD$40M~$50M 產能擴增…SiC 產能將約為 2021 年的 7~8 倍,GaN 產能將約為目前的 2~2.5 倍 法說會簡報 p.13
2022–2026 產能絕對數字全數消失;產能利用率百分比僅見於 2026-04-29 逐字稿(8 吋接近 90%、4/5 吋低於 60%,董事長 [00:31:30])

★ 對照一手實績:2021-11-15 法說會簡報 p.13 宣示「SiC 產能將約為 2021 年的 7~8 倍」,而 114 年度 SiC 實際僅生產銷售 2,558 片、營業毛利 (21,369) 仟元(2026/08 公開說明書 p.67)——擴產倍數兌現、需求未兌現


五、★逐字稿誤植更正表(僅 2 場有逐字稿,且皆有 AI 轉錄錯誤)

5-1 2025-09-17 逐字稿(嘉晶+漢磊聯合法說;全部財務數字不可用

該場 AI 先轉英文再回譯,造成三類系統性錯誤:幣別錯(新台幣→人民幣/美元)、量級錯(10 倍或 10 分之一)、公司歸屬錯(嘉晶↔漢磊)

(A) 幣別/量級誤植(正確值一律以 2025-09-17 法說會簡報 p.4/p.5 為準)

逐字稿原文 實際應為(法說會簡報 p.4/p.5)
「營收達到人民幣 18 億元,約合人民幣 51.66 億元」 新台幣 1,851,660 仟元(18 億 5,166 萬元)
「毛利為人民幣 14.7 億元,毛利率 6%」 新台幣 104,738 仟元;毛利率 6% ✅
「我們的利潤約為 392.8 萬美元 營業損失新台幣 (39,286) 仟元
「稅前虧損為 497 萬美元 稅前損失新台幣 (49,771) 仟元
「總虧損為 398 萬美元 本期淨損新台幣 (39,818) 仟元
「對應於美股每股虧損 0.14 美元」 每股虧損新台幣 (0.14) 元(嘉晶未在美上市,「美股」為幻覺
總股本為人民幣 68 億元」 資產總計新台幣 6,801,049 仟元;股本實為 2,885,418 仟元(科目張冠李戴)
「總流動債務約 100 億/非流動 92.4 億/總債務 192.7 億」 流動負債 10.04 億/非流動 9.24 億/負債總計 19.28 億(新台幣,全部量級錯 10 倍
「基本供應量約 165,000,000」 資本公積 1,650,774 仟元
「儲備盈餘約 33,900,000」 保留盈餘 339,497 仟元
「每股淨值約 16.89 元(yuan)」 新台幣 16.89 元(數值正確、幣別錯;出自法說會簡報 p.5 非 p.4)

(B) 期別誤植:整份 Memo 把 2025H1 標成 24H1;「去年上半年 GaN (21%)、SiC (64%)」應為 25H1 YoY;「24Q4 產量回升」「24H2 高單位數成長」應為 25Q4/25H2;「25 年 8 吋預期雙位數成長」應為 26 年

(C) ★公司歸屬誤植(這些不是嘉晶 3016)

逐字稿內容 實際歸屬
漢磊 24H1 每股盈餘約 1.02 元、總淨利潤 91 億元 漢磊科技(3707);「91 億」量級明顯錯,無法還原
「漢磊 24H1 毛利損失 1.3 億元、毛利率負 24.5%」 漢磊科技(嘉晶 25H1 毛利率為 +6%,2025-09-17 法說會簡報 p.4)
Gen4 SiC 平台性能提升 20%、晶片面積減少 20%」 漢磊的元件平台(嘉晶是磊晶代工廠、不做 MOSFET device 平台)
「6 吋產能每月約 5,000 片、GaN 每月 2,000 片、8 吋試產線明年上半年月產能 1,500 片」 漢磊產能。⚠️ 極易誤植——嘉晶 2018-08-22 法說會簡報 p.5 自報 GaN EPI ~2,000 片/月、SiC ~1,500 片/月,數字巧合相近
「總收入 266,242.5 百萬元/總資產 1,338,755,000 元」 漢磊財務,數字內部矛盾、無法還原
「競爭對手包括 Xfab、中國 Github」 「Github」為 AI 幻覺、無法還原;且該段講的是漢磊的競爭態勢
「工業用電 42%/綠能 6%/汽車由 28% 降至 22%」 漢磊的應用別結構

(D) 專有名詞音譯誤植(可還原):「AP」→ EPI(磊晶);「合金」→ 化合物磊晶;「細鋁結構/細粒金屬/優質晶體」→ 矽磊晶;「化學半導體」→ 化合物半導體;「GEND EPI/GAM/Gain Nitro」→ GaN;「SIGCOMM CARBIDE/氮化矽(SiC)」→ SiC;「年度時尚週」→ 年度法人說明會。 「VENGA/MENGA/Binga/World Finance」15 處以上——依語境高度可能指世界先進(Vanguard, VIS),惟屬推論、未經一手定讞,不得直接寫入報告

(E) 人名:逐字稿作「溫金翔」;2026 場逐字稿作「溫瑾祥/溫筳祥」。一手權威寫法為「温錦祥」(2026/08 公開說明書 p.3 摘要頁、p.16 經理人表),本整理與報告一律採公開說明書寫法。「劉燦文」為漢磊科技總經理、非嘉晶,其發言不可歸給嘉晶。

5-2 2026-04-29 逐字稿(品質較佳,但仍有誤植)

誤植 應為 出現處 一手佐證
日本 IBM 客戶」(4 處) 日系 IDM 大廠客戶 [00:10:54]×2、[00:14:50]、Memo [00:11:16] 2026-04-29 法說會簡報中文版 p.15;英文版 p.13 作 "one of Japanese IDM customer"
德國矽(Germanium on Silicon)」(5 處) 鍺矽/Ge-Si(Germanium=鍺) [00:24:18]、[00:27:59]、[00:33:14]×2、Memo 2026-04-29 法說會簡報 p.13「Ge/Si(鍺/矽)PD 磊晶產品」
稅前淨利約 1 億 1200 萬元」(3 處) 營業利益 112,229 仟元;稅前損益實為 125,822 仟元 [00:03:14]、Memo [00:04:37]/[00:04:59] 2026-04-29 法說會簡報 p.4
★「稅後淨利約 1.5 億元」(2 處,新掃出 本期損益 100,656 仟元(1.01 億) [00:03:14]、Memo [00:04:59] 2026-04-29 法說會簡報 p.4;1.5 億無對應科目
「AP 製程/矽 AP/瓶頸在 AP/8 吋 APD」 EPI(磊晶) [00:24:18]、[00:27:59]、[00:41:13]、[00:14:50]
「Cyclone Photonics/Signal Photonics/Silicon Fortronic」 Silicon Photonics(矽光子) [00:41:13]×2、[00:45:54]
「Silver Gemini PD」/「哲系的 APD」/「細者的 PD」 Ge-Si/鍺(Ge)的 PD [00:37:59]、[00:42:40]、[00:43:15] 2026-04-29 法說會簡報 p.13
「System Cover」(2 處) SiC(碳化矽) [00:47:40]
★講者標籤錯置 [00:00:23] 標為「徐建華-董事長」,但該段開頭「我是溫總經理…接下來請徐建華董事長致詞」實為 IR 主持人的介紹詞 [00:00:23] 引用該段開頭句不可標為董事長發言

時間戳驗證:報告所引 24 個時間戳內容全部可在逐字稿找到對應原話、無憑空捏造。惟三處戳位建議微調——[00:22:26] 與 [00:27:37](下半年優於上半年)實際落在 [00:24:18] 段;[00:45:25](Innoscience 競爭)實際在 [00:47:40] 段,[00:43:15] 段僅有「相較國際 IDM 大廠 GaN…客戶低壓 GaN 專利」。

發言人結構(一手支持)董事長=徐建華總經理(CEO)=温錦祥([00:03:14] 本人自稱「我是嘉晶電子總經理」)——兩位為不同人,但「CEO」與「總經理」是同一職位。副總經理暨發言人=范桂榮(2026/08 公開說明書 p.3)。 交接可獨立交叉驗證:法說會簡報封面署名 2018–2024 場為「CT Sune」(前總經理孫慶宗)→ 2025、2026 場改為「JS Wen」,與 2026/08 公開說明書 p.31 註5「原總經理孫慶宗屆齡退休、温錦祥 114/03 新任」完全吻合。


六、逐場重點照錄(含投影片頁次)

① 2017-04-13 年度法說會|中文版 18 頁|FY2012–2016+17Q1/Q2

② 2018-03-21 107 年法說會(CT Sune)|11 頁|FY2015–2017+18Q1

③ 2018-08-22 法說會|9 頁|FY2016–2017+18H1

④ 2019-10-29 108 年法說會(CT Sune)|10 頁|FY2016–2018+19H1

⑤ 2020-08-19 109 年法說會(CT Sune)|9 頁|FY2017–2019+20H1

⑥ 2021-11-15 110 年法說會(CT Sune)|14 頁|FY2019–2020+21Q1–Q3

⑦ 2022-09-22 111 年法說會(CT Sune)|9 頁|FY2020–2021+22H1(無目錄頁,財報在 p.3

⑧ 2023-09-21 112 年法說會(CT Sune)|14 頁|FY2021–2022+23H1

⑨ 2024-09-11 113 年法說會(CT Sune)|14 頁|FY2022–2023+24H1

⑩ 2025-09-17 114 年法說會(JS Wen;嘉晶+漢磊聯合法說)|13 頁|FY2023–2024+25H1

⑪ 2026-04-29 2026 Q1 法說會(JS Wen;首次改為一年兩次)|16 頁|2026Q1


七、矽光子(Ge/Si)七年時序(★報告易誤判為 2026 年新事物)

時點 揭露內容 出處
2019-10-29 「研究開發矽光子的磊晶,主要應用在 5G 基地台及資料處理中心等的光纖產品」 2019-10-29 法說會簡報 p.7
2020-08-19 「研究開發矽光子的磊晶平台,目前客戶驗證中。未來主要在 5G 基地台的應用」「GaN (RF) 及矽光子…應會是未來成長的動能」 2020-08-19 法說會簡報 p.6、p.8
2021–2025(5 場) 未再提及矽光子 2021-11-15/2022-09-22/2023-09-21/2024-09-11/2025-09-17 法說會簡報全查
2026-04-29 「成功協助客戶量產 Ge/Si(鍺/矽)PD 磊晶;第一季完成產品驗證且進入小量生產,正式進入 AI 高速光通訊供應鏈」「已通過國際一線客戶驗證,正式進入重要 AI Server 終端客戶供應鏈…全速推動產能擴建」 2026-04-29 法說會簡報 p.13、p.15
2026-04-29(逐字稿 L1) 客戶為「美國公司、成立超過 15 年」;Ge/Si 剛起步、量小、營收貢獻有限;「數量細節因涉及客戶資訊不便透露」「ASP 部分,我不便透露」;「目前矽光子的瓶頸在 EPI…整體產出需求方面,瓶頸確實在 EPI」 董事長/CEO 2026-04-29 法說會 [00:31:30]/[00:26:04]/[00:37:59]/[00:41:13]

技術累積年限應為 2019 年起算(七年),非 2026 年新事物;惟中間 2021–2025 五場完全未提,代表期間並無可揭露之商業進展。


八、法說會層級的資料缺口(據實標明)

  1. 矽光子的營收金額、出貨數量、ASP:11 場全無;公司明示不揭露(董事長 2026-04-29 法說會 [00:31:30] 及同場 Q&A「ASP 部分,我不便透露」)。真缺口。
  2. 具名客戶:11 場皆未具名(僅有「日系 IDM 大廠」「國際一線客戶」「美國公司、成立超過 15 年」等描述)。真缺口;惟 2019-10-29 法說會簡報 p.7「增加 3 家以上的客戶合作」、2023-09-21 法說會簡報 p.13「已有數家國際 IDM 大廠驗證通過且上量量產」屬客戶家數與類型的量化揭露。
  3. 26Q3 與 2026 全年財測:2026-04-29 場確實只給到 26Q2;董事長 [00:27:59] 明說「關於下半年營收比例,無法提供精確數字,但預期下半年優於上半年」。該場成立——但如第一節所述,公司 2017–2022 多次提供含毛利率與營益率的區間財測,正確論述為「財測顆粒度自 2023 年起系統性降級」。
  4. 產能利用率百分比:11 場簡報皆無;僅 2026-04-29 逐字稿有(8 吋接近 90%、4/5 吋低於 60%,董事長 [00:31:30])。簡報層級為真缺口。
  5. 2022-09-22/2023-09-21/2024-09-11 三場無逐字稿:本地僅有中英文簡報 PDF,狀態為「本地無檔、未取得」,非「AlphaMemo 無收錄」。

本頁所有數字均可回查 _事實底稿_2026-08-12.md_文件/法說會/ 內 22 份原始簡報 PDF 及 2 份逐字稿;頁次為中文版投影片頁次,標記(圖)者係 300dpi 轉圖判讀、標記(軸)者為縱軸讀取之近似值。資料截至 2026-08-12,最新法說會為 2026-04-29。